Sciath feidhme plating airgid bhfolús

Sciath feidhme plating airgid bhfolús

 

Áirítear go príomha le plating folúis roinnt cineálacha galú bhfolús, sputtering agus plating ian. Úsáidtear iad go léir chun scannáin mhiotail agus neamh-mhiotalacha éagsúla a thaisceadh ar dhromchla páirteanna plaisteacha trí dhriogadh nó sputtering faoi choinníollacha folúis. Is féidir leis an modh seo sciath dromchla an-tanaí a fháil, agus ag an am céanna tá na buntáistí gan íoc a bhaineann le luas tapa agus greamaitheacht maith, ach tá an praghas ard freisin, agus tá níos lú cineálacha miotail ann is féidir a oibriú. Úsáidtear go ginearálta é mar sciath feidhmiúil do tháirgí deiridh níos airde.

 

Is modh é an modh galú bhfolús chun miotail a théamh faoi fholús ard, é a leá agus a ghalú, agus scannán miotail a fhoirmiú ar dhromchla an tsampla tar éis fuaraithe. Is é 0 tiús an bhrataithe.8-1.2um. Is gá na neamhrialtachtaí nóiméad a líonadh ar dhromchla an táirge mhúnlaithe chun dromchla cosúil le scáthán a fháil, is cuma an ndéantar an taisceadh bhfolús chun éifeacht scátháin a fháil nó an ndéantar sil-leagan bhfolús ar Duasteel, a bhfuil íseal. greamaitheacht. Déantar cóireáil undercoat.

Próiseas sciath airgid bhfolús

 

(1) Foshraith - PMMA, PC.

 

(2) Is é an scannán sraith amháin nó dhá shraith de scannán frith-mhachnamh agus deich scannán uiscedhíonach. Léirítear an struchtúr membrane i bhFíor 1.

 

(3) Cumhdach. Rinneadh sil-leagan imoibríoch agus úsáid á baint as bratóir sputter maighnéadrón leanúnach.

 

① Soláthar cumhachta: Úsáideann sprioc Si ​​soláthar cumhachta minicíochta idirmheánach, agus úsáideann sprioc Ti soláthar cumhachta DC deich-pulse.

 

② Céim folúis: tugtar isteach Ar agus O2, agus is é 5 X 10-1Pa an chéim fholús.

 

③ Teocht: 25-35 céim

 

④ Ar deireadh, tá an membrane uiscedhíonach IAF3 taiscthe.

Sputtering Magnetron do dhromchla an scáileáin chosanta airgid-phlátáilte i bhfolús

 

Tá dromchla an scáileáin chosanta brataithe le scannán TiO₂ innéacs ard-athraonta agus scannán innéacs íseal-athraonta-Si0 ₂ ag sputtering magnetron, ionas go mbeidh an éifeacht frithchaiteachta agus frith-íseal ag an scáileán cosanta. machnaimh. Ós rud é gur ábhair orgánacha iad foshraitheanna PC nó aicrileach, ba cheart go mbeadh an teocht taiscí laistigh den raon 30-35 céime.

www.superbheater.com